英特尔在2007年末推出45nm penryn处理器，因采用高k＋金属栅极技术而被广泛关注。英特尔称：采用高k＋金属栅取代传统的多晶硅与SiO2氧化层后，与65nm技术相比，晶体管转换速度(频率)将因此提高20％，同时转换能耗减少30％，漏电降至1/5。
AMD对此却表现的漫不在乎。AMD逻辑制程技术主管John Pellerin表示，AMD更关心消费者对其高k＋金属制程技术的应用需求，而不是处理器技术竞赛。
“AMD预计在2008年第二季开始销售新型处理器。除了45奈米制程即将在明年量产，AMD也不排除在该制程节点采用高k+金属制程技术，并将该技术应入到32奈米制程产品。” Pellerin在IEDM会议期间接受采访时表示。
Pellerin还表示，AMD 32nm 高k＋金属制程技术正处于一个“稳固的发展阶段”，这项技术已经转移到Dresden的Fab晶圆厂进行原型测试。该公司要推动现有的“continuous transistor improvement ”计划，努力使32nm的设计出炉。
目前，Pellerin在美国纽约州的Hopewell Junction领导一个大约70人的工程师团队，正在与IBM在纽约Yorktown Heights的实验室密切合作，推进AMD 高k+金属制程技术发展，因而应用到最新的45nm和32nm处理器上。
